，作者：度轩，头图来自：视觉华夏，原文标题：《日本断供光刻胶：韩国顺利下降，本土半导体创造呢？》

　　对中原电子半导体蓬勃的箝制尚有什么裂缝？这是二月中下旬Digital Asia的热门浸点作品。该文直言，在光刻胶接续需要的前提下，中原本土仍可煽动晶圆缔造与更新，结尾在7nm及以下制程上取得突破。随后，有关日本对中国断供光刻胶的传说起首发酵。是否断供仍未知，但搜集容大感光在内的本土光刻胶相关厂商，股价大涨，也算是一种着急的显露。

　　至于光刻胶的做事真理，开始将其涂抹在衬底上，在光照或辐射用意下熔解可溶部门后，光刻胶层发作与掩膜版上完全一样的图形，再进程刻蚀在衬底上已毕图形转折。左证运用的差别，衬底或者分为PCB、面板和集成电路板。

　　韩国在三年前也被日本断供光刻胶等半导体材料，直到近期双方握手言和，禁令才被摈斥，Bsport体育而必须要提及的标题是：没有光刻胶的日子里，三星晶圆代工开业如何增进？既然三星恐怕顺利“登陆”，是否本土晶圆代工厂商们也也许？笔者在调研了后涌现，同样是断供，同样是光刻胶，三星的门途，无法复制。

　　2019年7月，日本政府正式停滞对韩国出口氟化聚酰亚胺、光刻胶与氟化氢等关节电子原质地，但干系日企赢得政府答允后，仍可向韩国供货。这套使用就坊镳：关进密闭空间，但给全班人开一扇后门。于是到达8月，日本政府便批复向三星供给至少9个月的光刻胶用量，以便于三星在7nm/5nm产能方面的机关。

　　其余，企业层面，三星“有难”，八方施舍。日本光刻胶大厂Tokyo Ohka Kogyo（下称TOK）与三星C&T（Construction & Trading）公司于2020年在韩国本地合筑EUV光刻胶工厂。与此同时，JSR在比利时的合伙公司也在为三星提供EUV光刻胶。美国化学品威望杜邦公司投资2800万美元在韩国出产光刻胶。

　　最后，韩国本土也并非无任何光刻胶可用。据 TOK 和 Fujifilm 数据呈现，2021年东京应化、JSR、住友化学、富士胶片分别攻下27%、13%、12%、8%的光刻胶市集份额，陶氏化学攻陷17%的商场份额，韩国东进霸占11%的商场份额。

　　而早在2019年，东进的EUV光刻胶便已经过三星的切实性验证，成为首家投入三星芯片缔造产线的韩邦本土光刻胶厂商。权且暂无法明晰其在晶圆代工产线的效能，但玩赏东进官网后呈现，其并未竟然光刻胶仔细产品类另外消休，示妄图枚举的是ArF光刻胶，而非EUV。

　　简单来途，光刻胶按照料用场景可分为低端（PCB、显露面板与LED）和高端（半导体）两类。此中，高端按曝光波长来看，可分为深紫外光刻胶（KrF，合用于248nm波长光源；干/湿ArF，实用于193nm波长光源），以及极紫外EUV光刻胶（合用于13.5nm波长光源，可用于10nm以下的先进制程）。

　　天风证券数据展现，ArF光刻体例冲破了此前65nm折柳率的瓶颈，在45nm到10nm之间的半导体制程工艺中，ArF光刻技艺照样取得了最盛大的运用。停止2021年，ArF光刻胶占比约42%，仍是商场须要的主流，KrF光刻胶占比约22%。

　　回到本土厂商对光刻胶的布局，能否复制韩国三星模式的标题，答案显明是大写的NO！

　　来自美国方面的压力，不摒除日本对中国实行光刻胶断供的害怕性。效仿三星，走海外关伙公司的捷径无从道起。另一方面，本土也偶然还未映现韩国东进这样大范畴量产高端光刻胶的厂商。

　　从国内市集看，国内从事半导体光刻胶研发和坐褥的企业急急有晶瑞股份、南大光电、上海新阳、北京科华、容大感光、博康等。国内厂家多以i 线、g线光刻胶分娩为主，操纵集成电途制程为350nm以上。

　　高端光刻胶界限，北京科华、博康已量产KrF光刻胶（可欺骗于130nm集成电道制程）；ArF方面且则还未竣工量产，来自南大光电的最新动静，该公司ArF光刻胶，已不才旅客户保存芯片50nm和逻辑芯片55nm技艺节点上经过认证，成为国内经过客户验证的第一只国产ArF光刻胶；早前，瑞联新材在投资者互动平台流露，公司研发的光刻胶单体涉及ArF光刻胶及KrF光刻胶，此中局部ArF光刻胶单体产品已量产。极紫外EUV光刻胶方面，Bsport体育短暂北京科华正在研发，已历程02专项验收。

　　光刻胶验证身手长，条例严刻，下搭客户认证本领长，面板光刻胶验证周期大凡为1~2年，半导体光刻胶验证周期普通为2~3年，客户粘度大，普通下旅客户研讨产品质量等成分不易更换供应商，导致国内光刻胶进展稽迟。

　　以是，不出意外，这惟恐是一盘没有太大胜算的棋局，但值得慰问的是，手握棋子的弱势方，并没有就此认命。工信部及搜索机构Cision的告诉表示，十三五时辰，国内光刻胶市集告终年均14.5%增进，五年均匀复关增长率为12.12%。

　　专利方面，据智慧芽专利数据体现，光刻胶第一大技巧本原为日本，专利申请量占环球光刻胶专利总申请量的46%；美国则以25%的申请量位列第二；中国则以7%的申请量排在韩国之后。从趋势上看，2020年中国光刻胶专利申请量为1.29万项，日本光刻胶专利申请量降低至8982项。

　　5G芯片、光刻机、光刻胶……全家当链上卑劣查漏补缺，统统阻击。客观来路，对本土电子科技财富的阻挡不断加深，Bsport体育而这何尝不是供应了一种置之死地尔后生的生怕性？