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中科院牵头的身手冲破对半导体微纳加工和光刻特别首要

发布日期:2023-01-15 22:09 浏览次数:

  图 1.a) 磁光测量的光学帮助示希图。b) 预涂有紫外引发紫色荧光粉的图案纸的照片,磁性限制为 0 T 至 0.8 T,阻隔为 0.2 T(白色箭头体现偏振片的透射轴)。深紫外光的波长树立为 303 nm。c) 正向和反向扫描中透射的深紫外光与磁场的强度。插图:在没有0.8 T磁场的情状下透射的DUV光的偏振。 d)经由掌握永磁体之间的隔断Bsport体育举办DUV调制。原料基础:徐友安、丁宝福、黄子阳、戴立新、刘鹏、李冰、蔡伟、程慧明Bsport体育和刘碧璐

  基于双折射的光调制器的事情波长限制为 350 nm,在深紫外光束整形、高密度数据留存、半导体微纳加工和光刻方面发扬着至闭严沉的感染。现实上,一系列DUV双折射原料,蕴涵α-BBO,MgF2,Ca(BO2)2和α-SnF2的单晶,依然制成并加入生意垄断。但是,这些双折射元件具有固定的双折射,统制了它们的连续光调制才具。

  液晶(LCs)是另一种双折射质地,个中双折射过程外部电或磁刺激的分子摆列可调谐。到目前为止,常用的LC主要基于有机分子或集结物,由于光化学降解效应,在DUV光下不太平。同时,DUV还可以向导一些有机基团中的自由基,并激励其会合,从而拆台LC的陈设和由此爆发的双折射。于是,有机液相色谱不能调节深紫外光。

  在《光科学与使用》杂志上发布的一篇新论文中,由华夏科学院深圳先进技术想考院的程慧明说授和丁宝福副传授、西安高工推敲院蔡伟讲授、清华大学刘碧璐传授率领的三个科学家团队授与湿化学环节团结关成了二维(2D)无机掺杂钛酸钴(CTO)LC。2D LC具有大的磁性和光学各向异性,以及在300~350nm波长下70%的高透射率,不妨以磁性和便携式体例举办透射的DUV调制(图1)。

  图 2.a) 透射深紫外强度的可逆性测试。插图:场强对应,分隔为 0.1 T,从 -0.8 T 到 0.8 T。 b) 透射 DUV 光的瞬态磁光标记(上图)反响峰值强度为 1.3 T 的磁脉冲(下图)。c) 对付 2D CTO LC 调制器坚固性的循环试验:透射 DUV 光(上图)的时期依附强度,情由 ±0.8 T 的磁场每 10 秒周期性地打开和封锁(下图)。d) 在延续深紫外晖映下透射强度与透露期间的疲乏测试300分钟。0.8 T 的磁场保持开启形状。深紫外光强度:200 mW cm⁻⊃2;。资料起源:徐友安、丁宝福、黄子阳、戴立新、刘鹏、李冰、蔡伟、程慧明和刘碧璐

  图2详细了基于2D CTO LC的DUV调制器所需的职能,其优异的可逆性、毫秒级的快速响应、灵便的耐用性和DUV安定性证实了这一点。

  2D CTO LC的磁双折射效应使其实用于柔性DUV双折射光学水凝胶的制备。经历在2D CTO悬浮液中加入少量单体和光激发剂,颠末施加磁场的紫外光固化制备了DUV双折射水凝胶。

  一旦水凝胶实现,磁性摆列的2D CTO纳米片能够固定在水凝胶里面,而且它们的一共长轴彼此平行,假若在去除磁场后也是如此。CTO水凝胶可以用作通后的机器光学晶体,进程它可以原位调制DUV光,而无需以呆板体例更正偏向(图3)。基于2D CTO的水凝胶是第一个不妨以呆板方式陆续医治DUV光的双折射可调元件。

  图 3.a) CTO水凝胶(左)及其制作原委安排(右)的照片。b) CTO水凝胶的压应力-应变曲线。c)水凝胶在光宣扬方进步的单轴收缩引起的相位贻误。d) 缩短原委中深紫外调制的可逆性和稳固性的循环测验。e-g)好像于b-d,但表示拉伸的进程。材料基础:徐友安、丁宝福、黄子阳、戴立新、刘鹏、李冰、蔡伟、程慧明和刘碧璐

  这项事件能够将方今用于可见光和红外地域的双折射可调光学器件扩充到DUV地区,这看待高密度数据生存,半导体微纳加工和光刻希罕浸要。

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