同花顺300033)金融研究中心9月8日讯,有投资者向探路者300005)提问b体育, 你好,请问江苏鼎茂半导体公司的专利发明【一种集成芯片的加工制备工艺】,该发明包括,S1:获取Wafer,将Wafer作为衬底;S2:确定蚀刻区域,将不同封装体放置于Wafer衬底上,描绘蚀刻区域;S3:进行蚀刻,将获描绘后蚀刻区域,在Wafer上进行蚀刻,其中蚀刻后可放置芯片数量至少为一个;S4:在蚀刻区域内b体育,放置对应的芯片;请问这是光刻机中刻蚀的一道工艺吗?谢谢
公司回答表示,您好,该项专利目前尚未通过,且该专利是在晶圆级封装上的工艺发明,与光刻机无关。感谢您的关注。
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